ICBP® Nano 가장 간결한 진공침탄 및 진공침탄질화 설비

본 설비로 작업 간 일정성과 반복성은 향상하고 왜곡은 줄일 수 있습니다. 각 셀은 개별 제어되므로 셀 별로 다른 온도와 가스 주입, 열처리 방식으로 작업할 수 있습니다. 또한 설치 유연성, 간결함, 개선된 생산성으로 최상의 처리 품질을 보장합니다.

• 진공침탄(Low pressure carburizing)
• 진공침탄질화(Low pressure carbonitriding)
• 가스 퀜칭
  • 헬륨이나 질소
  • 최고 10 bar (옵션으로 20 bar까지 가능)
• 고온 템퍼링(High temperature tempering)
• 진공 풀림(Vacuum Annealing)
• 브레이징(Brazing)
• 소결(Sintering)

ICBP® Nano 300 (3개 유닛)

ICBP® Nano 600 (확장 후 6개 유닛)

• 호환가능 장치
  • AMS2750
  • CQI9
• 중성 분위기 대류 가열
• 고온 옵션
• 냉각수 루프
• 퀜칭 가스 회수장치 (헬륨 용)
  세척기, 예열로, 템퍼링, 저장장치, 이송장치, 배출장치 등 모든 주변장치와 열처리로, 열처리라인에 통합할 수 있습니다…
• 전자동화 – 턴키솔루션(일광공급)으로 판매 가능